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DFX-F2晶体分析仪

时间:2018-11-03 13:53   tags: 晶体分析仪  

DFX-F2型晶体分析仪
DFX-F2型晶体分析仪能够提供稳定的X射线光源,特点是利用可控硅和集成电路自动控制系统进行调流调压,从而获得一个强而稳定的射线光源.该机射线发生器功率大,整机稳定性高,操作简单,可靠性强,防护完善,可与各种射线照相机一起构成X射线晶体分析仪,或用于其他用途的X射线光源.,广泛用于冶金,机械,电子,化工,地质,,能源,等科研、企业、大专院校.
  该X射线晶体分析仪,主要用于研究物质内部微观结构。如:单晶定向、检验缺陷、物质定性、测定点阵参数、测定残余应力等。
  主要参数:
电 源 AC220V 50HZ 30A
功 率 2 KW
靶 材 Cu(可选其他靶材)
管电压 50 KV(分档可调)
管电流 50 mA(分档可调)
稳定度 ±1%
保 护 过功率、过电压、过电流、无水
冷 却 制冷水箱
防 护 金属结构防护罩+铅玻璃+电磁光闸
 
 
 
DFX-F2 Type Crystal Analytical Instrument
Purpose: The X-ray crystal Analytical instrument is mainly used for 
reseaching the substance internal microstructure.Such as,single cr
ystal direction, examine the disfigurements, substance direction, 
measure lattice parameter, measure remain stress etc.
Main parameter:
Power supply AC220V 50HZ 30A
Power 2KW
Target material Cu(choose others)
Tube electric voltage 30KV(level adjustable)
Tube current 50mA(level adjustable)
Stabilization more or less 1%
Cooling circulating water, refrigeration water tank
Safety lead organic glass shield
 
Above-mentioned two kinds of cameras,customers can optionally 
choose the collocate.